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发明名称 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
摘要 This invention relates to new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, the invention relates to photoacid generator compounds that comprise a multi cyclic lactone moiety.
申请公布号 JP5687442(B2) 申请公布日期 2015.03.18
申请号 JP20100141492 申请日期 2010.06.22
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;C07D307/93;C07D493/18;C09K3/00;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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