| 发明名称 | 套刻测量装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种套刻测量装置和方法，用于检测套刻误差，该装置包括：光源，用于提供照明光束；物镜，用于将照明光束汇聚到待测样品上，并收集待测样品表面的衍射光；空间光调制器，位于物镜光瞳面，用于控制不同衍射级次的衍射光束通过；第一光谱仪，用于测量通过空间光调制器的衍射光光谱。本发明通过采用光谱测量替代角谱测量，减小了照明非均匀性对衍射光对应衍射级次非对称性测量的影响；同时，采用第一光谱仪对不同级次衍射光进行测量，减小角谱测量中CCD探测器灵敏度非均匀性对衍射光对应衍射级次非对称性测量的影响。 | ||
| 申请公布号 | CN104423173A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201310379994.8 | 申请日期 | 2013.08.27 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 陆海亮;王帆 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种套刻测量装置，用于检测套刻误差，其特征在于，包括：光源，用于提供照明光束；物镜，用于将照明光束汇聚到待测样品上，并收集待测样品表面的衍射光；空间光调制器，位于物镜光瞳面，用于控制不同衍射级次的衍射光束的通过；第一光谱仪，用于测量通过空间光调制器的衍射光光谱。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张东路1525号 | ||