发明名称 |
半导体器件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种半导体器件及其制造方法,其中,所述半导体器件包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底上的功能器件;形成于所述功能器件上的MIM电容器;其中,在所述功能器件和所述MIM电容器之间形成有一屏蔽层。在此,通过在功能器件和MIM电容器之间形成一屏蔽层,隔离所述功能器件与所述MIM电容器之间的相互干扰,由此既能够避免晶圆面积的浪费又能够使得可放置于MIM电容器下的功能器件不受限制。 |
申请公布号 |
CN104425442A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201310407944.6 |
申请日期 |
2013.09.09 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
陈美丽 |
分类号 |
H01L23/522(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/522(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;形成于所述半导体衬底上的功能器件;形成于所述功能器件上的MIM电容器;其中,在所述功能器件和所述MIM电容器之间形成有一屏蔽层。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |