发明名称 |
用于优化远程等离子窗清洁的排气流扩散挡板冒口 |
摘要 |
本发明涉及用于优化远程等离子窗清洁的排气流扩散挡板冒口。UV固化室内的成孔剂累积可通过使清扫气流过使晶片暴露于UV光的窗去除放气的成孔剂而被减少。清扫气流中的成孔剂可随着它们流过室并进入排气挡板而沉积到室内,包括沉积在排气挡板上的表面。排气挡板可具有使这种成孔剂沉积更均匀地分布在排气挡板上的特定特征,由此减少在清洁处理期间清洁挡板以完全去除累积的成孔剂所需的时间量。 |
申请公布号 |
CN104425315A |
申请公布日期 |
2015.03.18 |
申请号 |
CN201410421492.1 |
申请日期 |
2014.08.25 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
丽萨·玛丽·吉特利;史蒂芬·宇-宏·劳;詹姆斯·弗里斯特·李 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海胜康律师事务所 31263 |
代理人 |
李献忠 |
主权项 |
一种用于半导体处理室的排气挡板,所述排气挡板包括:内接在三角区内的底表面,所述底表面具有第一侧边、第二侧边和入口边;在所述底表面内并与所述入口边相对定位的排气孔;沿入口边定位的升高的轮廓截面,所述升高的轮廓截面具有偏离所述底表面第一距离的上表面,其中所述排气挡板被配置成与所述半导体处理室的至少一个其它组件连接,以使所述底表面偏离所述至少一个其它组件第二距离并使所述第一距离是所述第二距离的至少50%。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |