基板转移暨处理系统及其设备

摘要

本发明提供一种基板转移暨处理系统及其设备。其中基板转移暨处理设备适用于使一处理液体均匀在一基板上进行制程步骤，基板转移暨处理设备包含：一槽体；至少一反应槽室，设置于槽体内，用来提供处理液体与基板进行制程步骤，每一反应槽室包含一用来容置处理液体的处理容积；一限位单元，设置于槽体内，用来限制基板立于槽体内；及一流体循环系统，至少具有一驱动装置，流体循环系统驱动该处理液体于处理容积内循环流动，用来使处理液体均匀在立于槽体内的基板上进行一制程步骤。

主权项

一种基板转移暨处理设备，适用于使一处理液体均匀在一基板的单一表面进行一制程步骤，其特征在于，该基板转移暨处理设备包含：一槽体；至少一反应槽室，设置于该槽体内，用来提供该处理液体与该基板的单一表面进行制程步骤，每一反应槽室包含一用来容置该处理液体的处理容积；一加热单元，加热该基板和/或该处理液体；一限位单元，设置于该槽体内，用来限制该基板立于该槽体内；及一流体循环系统，至少具有一驱动装置，该流体循环系统驱动该处理液体于处理容积内循环流动，用来使该处理液体均匀在立于该槽体内的该基板上进行一制程步骤。