| 发明名称 | 气体团簇照射机构和使用了该气体团簇照射机构的基板处理装置、以及气体团簇照射方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了向被保持为真空的处理容器(1)内喷射气体并利用绝热膨胀来生成气体团簇、将生成的气体团簇向被处理基板(S)照射的气体团簇照射机构(10)。气体团簇照射机构(10)包括：具有多个气体喷射喷嘴(17)的喷嘴单元(11)；向喷嘴单元(11)供给气体的气体供给部(12)。以这样的方式设定气体喷射喷嘴(17)的根数：自气体喷射喷嘴(17)以需要的流量供给气体时处理容器(1)内所到达的压力成为不破坏气体团簇的程度的压力。而且，以这样的方式配置气体喷射喷嘴(17)中的相邻的气体喷射喷嘴：自该相邻的气体喷射喷嘴喷射出的气体中的无助于气体团簇的形成的残留气体的扩散范围互不重叠。 | ||
| 申请公布号 | CN104428875A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201380035374.0 | 申请日期 | 2013.05.22 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 井内健介;土桥和也 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种气体团簇照射机构，其向被保持为真空的处理容器内喷射气体并利用绝热膨胀来生成气体团簇，向配置于上述处理容器内的被处理基板照射气体团簇，其中，该气体团簇照射机构包括：喷嘴单元，其具有多个向上述处理容器内喷射气体的气体喷射喷嘴；以及气体供给部，其向上述喷嘴单元供给用于生成气体团簇的气体，以这样的方式设定上述喷嘴单元的上述气体喷射喷嘴的根数：自上述气体喷射喷嘴以需要的流量供给上述气体时上述处理容器内所到达的压力成为不破坏气体团簇的程度的压力，在上述喷嘴单元中，以这样的方式配置上述多个气体喷射喷嘴中的相邻的气体喷射喷嘴：自该相邻的气体喷射喷嘴喷射出的气体中的无助于气体团簇的形成的残留气体的扩散范围互不重叠。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||