发明名称 |
奈米点及其制造方法;Nanodot and manufacture method thereof |
摘要 |
本发明提供一种奈米点之制造方法,包括提供可水解之矽烷,其中可水解之矽烷具有一或多个可水解之基团及一或多个取代或未取代之烃基;以及以单一加热步骤使可水解之矽烷水解并缩合,形成奈米点。本发明所形成的奈米点包括氧化矽核;及自组装单层,包括取代或未取代之烃基,其中自组装单层与氧化矽核以共价键连结。; and performing a one-step heat treatment to hydrolyze and condensate the hydrolysable silane to form a nanodot. The nanodot includes a silicon oxide core; and a self-assembled monolayer (SAM) connected to the silicon oxide core by covalent bonds, wherein the self-assembled monolayer includes substituted or non-substituted hydrocarbon groups. |
申请公布号 |
TW201509794 |
申请公布日期 |
2015.03.16 |
申请号 |
TW102132114 |
申请日期 |
2013.09.06 |
申请人 |
国立中山大学 NATIONAL SUN YAT-SEN UNIVERSITY |
发明人 |
谢淑贞 HSIEH, SHU CHEN;林佩莹 LIN, PEI YING |
分类号 |
C01B31/02(2006.01) |
主分类号 |
C01B31/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文颜锦顺 |
主权项 |
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地址 |
高雄市鼓山区莲海路70号 TW |