发明名称 Halbleitervorrichtung und Halbleitervorrichtungsherstellungsverfahren
摘要 Ein Einstellbereich (1b) mit niedriger Lebensdauer vom n-Typ wird in einem Abschnitt innerhalb eines Driftbereichs (1) vom n–-Typ tiefer als die untere Oberfläche eines Abschlussbasisbereichs (2-1) vom p-Typ oder eines Schutzrings (7) vom p-Typ von einer vorderen Oberfläche des Substrats, der vom Abschlussbasisbereich (2-1) vom p-Typ und vom Schutzring (7) vom p-Typ getrennt ist, geschaffen. Die Ladungsträgerlebensdauer des Einstellbereichs (1b) mit niedriger Lebensdauer vom n-Typ ist kürzer als die Ladungsträgerlebensdauer des Driftbereichs (1) vom n–-Typ. Aufgrund dessen ist es möglich, einen rückwärts sperrenden IGBT zu schaffen, so dass es möglich ist, sowohl einen Sperrkriechstrom bei hoher Temperatur als auch eine Erhöhung des Ausschaltverlusts zu unterdrücken, während die Verschlechterung der Kompromissbeziehung zwischen dem Ausschaltverlust und der Durchlasszustandsspannung unterdrückt wird.
申请公布号 DE112013002031(T5) 申请公布日期 2015.03.12
申请号 DE20131102031T 申请日期 2013.07.10
申请人 FUJI ELECTRIC CO., LTD. 发明人 LU, HONG-FEI,
分类号 H01L21/76;H01L21/336;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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