Hohlkathodensystem, Vorrichtung und Verfahren zur plasmagestützten Behandlung von Substraten

摘要

Hohlkathodensystem zum Erzeugen eines Plasmas zur plasmagestützten Behandlung von Substraten (9) mit mindestens einer Hohlkathode (1), die an eine Leistungsversorgung (40) anschließbar ist, wobei die Hohlkathode (1) aus einem elektrisch leitenden Grundkörper (2) mit einem unterbrechungsfreien, durch Stege (4) begrenzten spiralförmig oder mäanderförmig verlaufenden und ein Gas in senkrechter Richtung zur Oberfläche des Grundkörpers (2) durchlassenden Durchbruch (3) besteht, dadurch gekennzeichnet, dass an der Oberfläche des Grundkörpers (2) die Stege (4) verbindende Brückenelemente (6) vorgesehen sind.