| 摘要 |
<p>Plasmachemische Beschichtungsvorrichtung mit einer Plasmakammer (15), innerhalb der mindestens eine lineare Antenne (5; 5') zur Erzeugung eines Plasmas mittels elektromagnetischer Leistung angeordnet ist, in die eine Zuführung (11) für ein Trägergas mündet und die eine Plasmaaustrittsöffnung (17) in Richtung eines Bearbeitungsraumes (19) für eine plasmaunterstützte Modifizierung eines Substrats (13) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmaaustrittsöffnung (17) als langgestreckte Taillierung ausgeführt und beidseitig von parallel zueinander verlaufenden Zylindern (8; 8') begrenzt ist, die um ihre jeweilige Zylinderachse verdrehbar sind, und dass in einem Bereich jenseits der Taillierung eine Zuführung (3; 3') für ein Schichtgas vorgesehen ist, und dass eine Reinigungszone (18; 18') vorgesehen ist, in die ein zu reinigender Bereich der Außenmantelfläche des Zylinders (8; 8') durch Verdrehen um die Zylinderachse eingebracht werden kann.</p> |
