独立控制外部循环的抛光液进给系统

摘要

独立控制外部循环的抛光液进给系统，它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统，属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题。独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器、抛光封闭室和气动搅拌装置组成。优点：一、实现了一台设备可以使用多种抛光液，克服了传统抛光设备“一台设备一种抛光液”的局限，提高了设备的加工能力；二、抛光液的用量可以根据被加工件的口径进行控制，有效降低了加工成本；三、本发明使用方便、稳定可控、造价低。本发明独立控制外部循环的抛光液进给系统主要用于为数控抛光设备提供抛光液。

主权项

独立控制外部循环的抛光液进给系统，其特征在于独立控制外部循环的抛光液进给系统由抛光液容器(1)、抛光封闭室(2)和气动搅拌装置(3)组成；所述的抛光液容器(1)由扬水泵(1‑1)、外部支撑壳体盖(1‑2)、抛光液存储容器(1‑3)、外部支撑壳体(1‑4)、水泵搅动叶片(1‑5)、内部支撑结构(1‑6)、高度可调的支撑部件(1‑7)、温度控制计(1‑8)、气动搅拌入口(1‑9)、抛光液回收管入口(1‑10)和抛光液供给出口(1‑11)组成，抛光液存储容器(1‑3)设置在外部支撑壳体(1‑4)内部，在外部支撑壳体(1‑4)内部底部和抛光液存储容器(1‑3)外底部之间设置高度可调的支撑部件(1‑7)，在外部支撑壳体(1‑4)内部侧壁和抛光液存储容器(1‑3)外侧壁之间设置内部支撑结构(1‑6)，在抛光液存储容器(1‑3)内侧壁上设置温度控制计(1‑8)，采用外部支撑壳体盖(1‑2)将外部支撑壳体(1‑4)遮盖，在外部支撑壳体盖(1‑2)上设置扬水泵(1‑1)，与扬水泵(1‑1)连接的水泵搅动叶片(1‑5)伸入到抛光液存储容器(1‑3)底部，气动搅拌入口(1‑9)贯穿外部支撑壳体盖(1‑2)与抛光液存储容器(1‑3)连通，抛光液回收管入口(1‑10)贯穿外部支撑壳体盖(1‑2)与抛光液存储容器(1‑3)连通，抛光液经过扬水泵(1‑1)由抛光液供给出口(1‑11)供给抛光封闭室(2)；所述的抛光封闭室(2)由封闭壁(2‑1)、抛光液供给入口(2‑2)、抛光液回流出口(2‑3)、抛光液喷嘴(2‑4)、支撑件(2‑5)和卡具(2‑6)组成；封闭室(2‑1)的底部与抛光设备工作台设计成2°的斜坡，斜坡最低处、封闭壁(2‑1)侧壁底部上设置抛光液回流出口(2‑3)；所述的气动搅拌装置(3)由气源(3‑1)、二次过滤系统(3‑2)、软管(3‑3)和气孔阵列管(3‑4)组成，气孔阵列管(3‑4)放置在抛光液存储容器(1‑3)内底部，气源(3‑1)来源的气体通过二次过滤系统(3‑2)进行过滤，软管(3‑3)一端与二次过滤系统(3‑2连通，软管(3‑3)另一端穿过气动搅拌入口(1‑9)与气孔阵列管(3‑4)连通。