发明名称 |
具有埋设光反射特征的光波导及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及制造光波导(100)的方法。通常,它依赖于下覆层(11)、波导芯(26L-481)和诸如镜的光反射特征(23-23c)或基准标记的设置。反射特征和波导芯构成具有开口结构的核心层。然后,施加上覆层聚合物(31),其埋设光反射特征和波导。因此,施加的上覆层填充由开口结构余下的空余空间。在填充覆层在其位于的水平上之前,核心层的部件在制造工艺期间相应地设在适当位置上。因为光反射特征和波导芯可以高精度设置在下覆层上(在施加上覆层之前),所以避开了修改(例如,切块)或改进后期置入的光反射特征位置的问题。有利地,波导芯和反射特征扫描二者图案化在下覆层上。反射特征还可由选择性金属化工艺获得。 |
申请公布号 |
CN102356338B |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN201080012361.8 |
申请日期 |
2010.03.31 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
R.F.丹格尔;F.豪斯特;T.P.兰普雷克特;B.J.奥夫雷恩 |
分类号 |
G02B6/138(2006.01)I;G02B6/42(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I |
主分类号 |
G02B6/138(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邱军 |
主权项 |
一种用于制造光波导(100)的方法,包括以下步骤:‑提供光波导的下覆层(11);‑在该下覆层上设置光反射特征(23);‑采用该光反射特征(23)作为标记,在该下覆层上形成与该光反射特征不同的至少一个波导芯(26‑28);‑施加埋设该光反射特征和该波导芯的上覆层(31);‑移除部分该上覆层(31),以显现该光反射特征(23);以及‑通过机械匹配该光反射特征与外部部件的对准凸柱,将该光波导与该外部部件对准。 |
地址 |
美国纽约阿芒克 |