卡其色真空镀膜件及其制备方法

摘要

本发明提供一种卡其色真空镀膜件，包括一基体、一衬底层及一颜色层，该衬底层直接与该基体结合，该颜色层形成于该衬底层的表面，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于100至60，a*坐标介于0至2，b*坐标介于12至17。本发明还提供一种上述卡其色真空镀膜件的制备方法。

主权项

一种卡其色真空镀膜件，包括一基体、一衬底层及一颜色层，该衬底层直接与该基体结合，该颜色层形成于该衬底层的表面，其特征在于：该颜色层为通过磁控溅射形成的TiN_y层，其中y表示颜色层中氮原子个数与钛原子的个数比，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于100至60，a*坐标介于0至2，b*坐标介于12至17，该衬底层为一TiN_x层，其中x表示衬底层中氮原子个数与钛原子的个数比，该颜色层中的氮原子百分含量大于该衬底层中氮原子百分含量，即y>x，形成该颜色层的工艺参数包括：采用流量为20～30sccm的氮气，流量为400～450sccm的氩气，钛靶的功率为5～20kW，施加于基体上的偏压为‑180～‑220V，占空比为25～35％，镀膜时间为20～30分钟。