发明名称 可旋转溅射靶材座、可旋转溅射靶材、涂覆设备、制造可旋转溅射靶材之方法、靶材座连接装置、以及将用于溅射设备之可旋转溅射靶材座装置连接至靶材座支撑件的方法
摘要
申请公布号 TWI476290 申请公布日期 2015.03.11
申请号 TW098136026 申请日期 2009.10.23
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 利泊特罗勒;汉莫奥利佛
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于溅射设备之可旋转靶材座装置,其中该靶材座装置适于在其上接收一实体靶材圆柱,该可旋转靶材座装置至少包含:一靶材座圆柱(4),其具有一侧面(3)、一中间部(12)、一第一末端区(7)及一与该第一末端区相对之第二末端区(9),其中该第一末端区及该第二末端区之至少一者具有一大体上等于或小于该中间部之一外径的最大外径,其进一步包含至少一个靶材座连接装置(270、18),其适于将该靶材座圆柱连接至一靶材座支撑件且系可移动,其中该至少一个靶材座连接装置至少包含:一固定接头(270);及一设于该靶材座圆柱中之固定凹槽(100),该固定接头适于至少部分地填充该固定凹槽,且其中该固定接头包含一固定轴环(270),该固定轴环具有一内螺纹(271),其与在该固定凹槽(100)中设置之一外螺纹(101)相对应,其中该固定凹槽(100)设于该靶材座圆柱(4)之一末端。
地址 美国