发明名称 计测方法、资料处理装置、及使用该方法、装置之电子显微镜
摘要
申请公布号 TWI476367 申请公布日期 2015.03.11
申请号 TW101134284 申请日期 2012.09.19
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 发明人 大桥健良;田中润一;关口智子;川田洋挥
分类号 G01B15/04;G03F1/36;H01J37/26 主分类号 G01B15/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种计测方法,系对在基底的上方以与前述基底的材料相异的材料所形成图案的试料,照射带电粒子线并计测前述图案;其特征为具有:准备于对前述试料照射前述带电粒子线时,或是于照射后所取得之包含前述试料的图案形状的资料之步骤;准备有关于前述试料的图案部的收缩的参数之步骤;准备有关于前述试料的基底部的收缩的参数之步骤;准备照射前述带电粒子线到前述试料时的线束条件之步骤;及使用包含前述图案形状的资料、有关前述图案部的收缩的参数、有关前述基底部的收缩的参数、及前述线束条件,算出对前述试料照射前述带电粒子线前的前述试料的图案形状、或是尺寸的步骤。
地址 日本