发明名称 相变存储器及其制造方法
摘要 本发明公开了一种相变存储器及其制造方法。根据本发明的相变存储器中,使用设置在存储节点顶部的顶部电极对存储节点进行加热,使得存储节点中的相变层发生相变。本发明的相变存储器中,顶部电极与存储节点的接触区域较小,有利于相变的进行。此外,每列存储节点通过同一个线性顶部电极连接,能够提高光学对准的偏移裕量。
申请公布号 CN103066202B 申请公布日期 2015.03.04
申请号 CN201110322547.X 申请日期 2011.10.21
申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 发明人 胡敏达;洪中山
分类号 H01L45/00(2006.01)I;H01L27/24(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 马景辉
主权项 一种相变存储器,包括多个相变存储器单元,其中每个相变存储器单元包括:存储节点,所述存储节点包括相变层;以及顶部电极,所述顶部电极设置在所述存储节点顶部,并且所述顶部电极的一端电连接到所述存储节点,所述顶部电极的另一端电耦合到位线,其中,所述顶部电极通过对所述存储节点进行加热,使得所述相变层发生相变,其中所述多个相变存储器单元排列成至少一列,并且每列中的相变存储器单元的顶部电极是一体形成的。
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