微波加热处理方法

摘要

在将微波导入至处理容器内而加热被处理基板的热处理中，在基板表层形成良好的单结晶。照射微波于晶圆(W)，并在该晶圆(W)上的非晶矽中，使该非晶矽在晶圆(W)与非晶矽的界面单结晶化，且升温至核生成不会发生在界面之外之区域的温度(第1温度)。接下来，以第1温度加热预定期间之后，进一步加热升温至高于第1温度的第2温度。