全像，全像资料产生方法，及曝光设备

主权项

一种藉由使用入射光在预定平面上形成光强度分布和光偏振分布的全像，该全像包含：复数个胞元，组态成控制在该入射光之第一偏振方向上的第一偏振光成份之相位，以及在正交于该第一偏振方向之第二偏振方向上的第二偏振光成份之相位二者，其中在藉由该第一偏振光成份形成在该预定平面上的第一光强度分布区域与藉由该第二偏振光成份形成在该预定平面上之第二光强度分布区域彼此叠覆的叠覆区域中，将该等复数个胞元设计成形成一部位，其中该第一偏振光成份及该第二偏振光成份两者均进入，以及其中该部位中之偏振光具有与该个别第一及第二偏振光成份的该入射光不同之偏振状态，该第一偏振光成份之相位及该第二偏振光成份的相位之间的相位差在该部位中系常数值，且该第一偏振光成份的相位在该部位中漫射。