发明名称 スパッタリングターゲットの噴霧侵食復活
摘要 種々の実施形態では、使用済みスパッタリングターゲットが、ターゲット材料の噴霧堆積の間、噴霧堆積ガンとターゲットの陥没表面輪郭との間に大傾斜角を維持することによって、少なくとも部分的に、復元される。本発明の実施形態は、不規則表面の各局所化された部分と噴霧堆積噴流(すなわち、堆積装置から推進され、ターゲット表面に衝打する、粉末流)との間の傾斜角を約45?を上回って(好ましくは、約60?を上回って)維持することによって、噴霧堆積(例えば、冷間噴霧)を介して、使用済み(すなわち、侵食された)スパッタターゲットの効率的かつ効果的復元を可能にする。
申请公布号 JP2015505907(A) 申请公布日期 2015.02.26
申请号 JP20140547406 申请日期 2012.12.13
申请人 エイチ.シー. スターク インコーポレイテッド 发明人 ミチャルク, クリストファー;ローウェンタール, ウィリアム;ロザック, ゲイリー;アブーアフ, マーク;ホーガン, パトリック;ミラー, スティーブン エー.
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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