| 发明名称 | 投射光刻的投射曝光设备 | ||
| 摘要 | 一种投射光刻的投射曝光设备(1)，包含用于产生照明光(4)的光源(3)。照明光学单元(5)将所述光引导至物场(14)。具有带有至少一个弯曲反射镜的折反射式投射光学单元(11)将所述物场(14)中的物(7)成像至像场(14a)中的基板(13)上。物位移驱动器(7b)和基板位移驱动器(13b)位移所述物(7)和所述基板(13)。补偿装置(43，44)用于补偿所述投射光学单元(11)的像差，其由所述物(7)或所述基板(13)的弓形弯曲导致。补偿装置(43，44)包含波长操纵装置(44)，用于在投射曝光期间操纵所述照明光(4)的波长。由此产生一种投射曝光设备，其中尤其考虑场曲而优化投射光学单元的成像质量。 | ||
| 申请公布号 | CN104380205A | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201380032972.2 | 申请日期 | 2013.05.17 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | A.埃普尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈金林 |
| 主权项 | 投射光刻的投射曝光设备(1)，‑具有用于产生照明光(4)的光源(3)，‑具有用于将所述照明光(4)引导至物场(14)的照明光学单元(5)，‑具有带有至少一个弯曲反射镜(M1，M2)的折反射式投射光学单元(11)，用于将布置在所述物场(14)中的物(7)成像至布置在像场(14a)中的基板(13)上，‑具有用于保持所述物(7)的物保持器(7a)，‑具有物位移驱动器(7b)，用于在所述物(7)的投射曝光期间位移所述物(7)通过所述物场(14)，‑具有用于保持所述基板(13)的基板保持器(13a)，‑具有基板位移驱动器(13b)，用于在所述投射曝光期间位移所述基板(13)通过所述像场(14a)，‑具有补偿装置(43，44)，用于补偿所述投射光学单元(11)的像差，所述像差由来自包含以下的组的场中的至少一个的曲率所导致：‑‑物场(14)，以及‑‑像场(14a)，‑其中，所述补偿装置(43，44)包含波长操纵装置(44)，用于在所述投射曝光期间操纵所述照明光(4)的波长。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||