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发明名称
薄膜形成方法及び薄膜形成装置
摘要
基板の表面の、薄膜パターンを形成する領域の縁への、薄膜材料の液滴の着弾と、着弾した薄膜材料の硬化とを繰り返すことにより、薄膜パターンを形成する領域の縁に、薄膜材料からなるエッジパターンを形成する。エッジパターンで縁が画定された内部領域に、薄膜材料の液滴を着弾させる。内部領域に着弾した薄膜材料を硬化させる。エッジパターンと内部領域に着弾した薄膜材料とからなる薄膜パターンが形成される。
申请公布号
JPWO2013011775(A1)
申请公布日期
2015.02.23
申请号
JP20130524635
申请日期
2012.06.12
申请人
住友重機械工業株式会社
发明人
分类号
H05K3/28;B41J2/01
主分类号
H05K3/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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