发明名称 建立图案资料之方法、建立图案资料之程式及半导体装置之制造方法
摘要
申请公布号 TWI474205 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW098130429 申请日期 2009.09.09
申请人 东芝股份有限公司 发明人 小川龙二;宫入将博;前田志门;姜帅现;田中聪
分类号 G06F17/50;H01L21/027;G03F1/36 主分类号 G06F17/50
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种建立图案资料之方法,其包括:获取一第一模拟结果,该第一模拟结果系藉由将处理程序模拟应用于基于在评估目标资料上之一第一评估目标单元图案的第一遮罩图案资料而获得;使用该第一模拟结果来评估是否存在作为在该第一评估目标单元图案中之区段具有不足边际的边际错误图案;提取该等边际错误图案;建立具有周围环境图案之一第二评估目标单元图案,其中一周围环境图案系相对于该等边际错误图案而布置,使得当建立第二遮罩资料图案及将该处理程序模拟应用于该第二遮罩资料图案时获得之一第二模拟结果比该第一模拟结果更加劣化;及使用藉由将该处理程序模拟应用于基于具有周围环境图案之该第二评估目标单元图案的该第二遮罩图案资料而获得之一结果来判定是否存在一严重错误,及当该严重错误存在时,校正包含该等边际错误图案之该第二评估目标单元图案,或基于该第二评估目标单元图案的该第二遮罩图案资料。
地址 日本