| 摘要 |
プラズマエッチング装置１は、プラズマ生成部３が設定された第１チャンバ２ａ、上部領域に処理部４が設定され、下部領域に排気部５が設定された第２チャンバ２ｂ及びマニホールド部６が設定される第３チャンバ２ｃからなる処理チャンバ２や、第３チャンバ２ｃの開口部８に接続された真空ポンプ３１を有する排気機構３０などを備えており、開口部８の開口面積Ｓ３よりもマニホールド部６の有効断面積Ｓ１の方が大きく、マニホールド部６の有効断面積Ｓ１よりも排気部５の有効断面積Ｓ２の方が大きく、第３チャンバ２ｃの開口部８が形成された部分の厚さＬ３よりもマニホールド部６の長さＬ１の方が長く、マニホールド部６の長さＬ１よりも排気部５の高さＬ２の方が長くなっている。 |
