发明名称 晶圆范围内定向自组装之控制方法;METHODS FOR CONTROLLING ACROSS WAFER DIRECTED SELF-ASSEMBLY
摘要 本发明提供一种用以处理包含嵌段共聚物层之层叠基板的方法(100)。方法(100)包含辨识嵌段共聚物层中之不均匀度(120);控制相关于该嵌段共聚物层中之不均匀度的制程变数(140);在受制程变数影响的制程条件下将嵌段共聚物层退火(160)以补偿该嵌段共聚物层中之不均匀度的至少一部份,而形成包含其中具有改善之均匀度的复数区域之图案。方法(100)更提供用以减少层叠基板中之不均匀度的途径,该层叠基板包含预图案化基材上的嵌段共聚物层。; controlling a process variable correlated to the non-uniformity in the layer of the block copolymer (140); and annealing the layer of the block copolymer under a process condition affected by the process variable (160) to compensate for at least a portion of the non-uniformity in the layer of the block copolymer to form a pattern comprising a plurality of domains having improved uniformity therein. The method (100) further provides a way for reducing a non-uniformity in a layered substrate comprising a layer of a block copolymer on a pre-patterned substrate.
申请公布号 TW201505819 申请公布日期 2015.02.16
申请号 TW103111815 申请日期 2014.03.28
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 桑末薇拉 马克H
分类号 B29C59/08(2006.01) 主分类号 B29C59/08(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋周良吉
主权项
地址 日本