发明名称 | 成膜装置 | ||
摘要 | 提供一种容易组装或维护等,又可抑制反应气体进入至波纹管内的成膜装置。;在真空氛围下供给反应气体至基板表面而进行成膜处理的处理容器内所配置的升降轴系以从下面侧支撑载置有基板之载置台的状态下延伸于上下方向之方式加以设置,并通过处理容器上所设置的贯通口而连接至外部的升降机构。波纹管系从侧方包覆升降轴周围而将处理容器内保持在真空氛围;盖构件系以包围升降轴之方式加以配置;而吹净气体供给部系为了透过升降轴与盖构件间的间隙来形成流动至处理容器的气体流,而供给吹净气体至该波纹管内。 | ||
申请公布号 | TW201506196 | 申请公布日期 | 2015.02.16 |
申请号 | TW103115123 | 申请日期 | 2014.04.28 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 成嶋健索;鸟屋大辅;朝仓贤太朗;村上诚志 |
分类号 | C23C16/52(2006.01);C23C16/54(2006.01) | 主分类号 | C23C16/52(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林秋琴陈彦希 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |