发明名称 一种用于制备图形衬底的一体化湿法腐蚀设备
摘要 一种用于制备图形衬底的一体化湿法腐蚀设备,该设备包括:控制单元;图形衬底制备单元,图形衬底制备单元主要分为:高、低温酸腐模组,图形掩膜制备模组和清洗模组。本发明引入了进行了特殊设计的BOE腐蚀槽,首先从功能上实现了图形掩膜图形化的制备功能,同时根据其制备工艺特点,设计了BOE腐蚀槽专用的腐蚀支架,实现了图形掩膜图形化的精确控制功能;同时,增加了丙酮槽和氢氟酸腐蚀槽,进一步实现了湿法腐蚀制备图形衬底的工艺在本设备的一体化实现,简化了图形衬底的制备工艺,节约时间、缩短流程。同时,本设备为生产大尺寸图形衬底工艺奠定了坚实的基础。
申请公布号 CN104347386A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201310316617.X 申请日期 2013.07.25
申请人 北京大学 发明人 孙永健;杨海艳
分类号 H01L21/306(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I 主分类号 H01L21/306(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 朱红涛
主权项 一种用于制备图形衬底的一体化湿法腐蚀设备,该设备包括:控制单元;图形衬底制备单元;其中,控制单元主要为控制面板,包括:水路系统、风路系统、电力系统和酸腐废液排放系统;所述的控制单元的主要功能为:除对水路、风路、电力和酸排系统地控制外,还对图形衬底制备单元的控制,包括对酸腐蚀以及掩膜腐蚀的温度、时间控制程序设定;清洗模组程序设定,以及对设备辅助功能的控制及酸腐槽超温报警的控制;图形衬底制备单元主要分为:高、低温酸腐模组,图形掩膜制备模组和清洗模组;所述一体化湿法腐蚀设备主要包括如下部件:控制面板;高、低温酸性溶液腐蚀槽;BOE腐蚀槽;去离子水清洗槽;丙酮槽;氢氟酸腐蚀槽;挡板;槽体盖;排风系统;图形掩膜制备用特制腐蚀支架;所述的控制面板,可对每个槽体进行独立操控,可显示每个槽体内液体的温度、腐蚀或清洗的时间;可设定对时间、温度的提醒功能;所述控制面板上设有每个槽体的时间和温度的控制模块及显示模块;所述的高、低温酸性溶液腐蚀槽,把高温酸腐槽和低温酸腐槽放到同一个腐蚀大区,用挡板隔开;高、低温酸性溶液腐蚀槽温度可控为0°~350°;在样品进行图形酸腐时通过精确的控温以降低湿法腐蚀的难度,保证湿法腐蚀图形化衬底时的图形完整性;所述的BOE腐蚀槽,位于另一腐蚀大区的左部;所述的去离子水清洗槽,用以隔开BOE腐蚀槽与丙酮槽、氢氟酸腐蚀槽,能够更好地阻止各腐蚀的反应;其材料内壁平滑,不易挂污物;所述的槽体盖,在所述的每个槽体上配备;所述的电力系统,除了为本发明提供源源不断的电力支持正常运转外,亦可对每个槽体进行独立控制的模组提供与之相匹配的电力控制;所述的排风系统,为负压抽气式排风装置,位于所述设备腐蚀区的上方及后方;可独立控制对风量大小进行调节;所述的水路系统,用于对清洗晶片的、停止湿法腐蚀进程的去离子水的供给和排放;所述的酸腐废液排放系统,用于对高低温酸腐蚀废液、BOE腐蚀废液及氢氟酸腐蚀废液单个的、单独地进行控制排放。
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