薄膜形成方法及薄膜形成装置

摘要

本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，所述薄膜形成方法中，即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域。本发明的薄膜形成方法中，在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜。通过在第1膜上涂布液状的薄膜材料，来形成液状的第2膜。在形成第2膜之后，照射光而使第2膜固化。

主权项

一种薄膜形成方法，其具有：在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向所述表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在所述表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜的工序；通过在所述第1膜上涂布液状的所述薄膜材料，形成液状的第2膜的工序；及在形成所述第2膜之后，照射光而使所述第2膜固化的工序。