发明名称 注入增强型绝缘栅双极型晶体管
摘要 本实用新型涉及功率半导体器件领域,主要是一种注入增强型绝缘栅双极型晶体管,包括p型集电极,所述p型集电极上设置有载流子扩散层,在所述载流子扩散层上纵向设置有多根沟槽,所述载流子扩散层上横向设置有多排p型活性区和p型非活性区,p型活性区和p型非活性区构成p型基区,呈条纹状;本申请的双极型晶体管中设置有条纹状周期分离性元胞结构,发射极对应形成分离状,使得空穴在发射极未形成覆盖的区域发生积累效应,从而提高沟槽附近区域的载流子浓度,进一步降低导通压降。
申请公布号 CN204144266U 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201420654247.0 申请日期 2014.11.05
申请人 中国东方电气集团有限公司 发明人 胡强;王思亮;张世勇
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人 苏丹
主权项 一种注入增强型绝缘栅双极型晶体管,其特征在于:包括p型集电极(101),所述p型集电极(101)上设置有载流子扩散层(103),在所述载流子扩散层(103)上纵向设置有多根沟槽(202),所述载流子扩散层(103)上横向设置有多排p型活性区(1041)和p型非活性区(1042),p型活性区(1041)和p型非活性区(1042)构成p型基区,呈条纹状;每排p型活性区(1041)包括多个独立的p型活性区(1041),多个p型活性区(1041)之间被所述沟槽(202)隔开,每排p型非活性区(1042)包括多个独立的p型非活性区(1042),多个p型非活性区(1042)之间被所述沟槽(202)隔开;所述每个p型活性区(1041)上设置有n型发射极(105),所述n型发射极(105)呈H型。
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