| 发明名称 | 用于磁控溅射设备的新型导轮 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于磁控溅射设备的新型导轮，包括导轮本体，所述导轮本体套装于定位轴外，所述导轮本体的两侧表面分别设有第一环形凹槽和第二环形凹槽。本实用新型通过在导轮本体的两侧表面分别设置环形凹槽，使导轮本体表面被溅射的绕镀薄膜在环形凹槽处断开，直到绕镀薄膜的厚度超过环形凹槽的宽度一半以上才会导通，所以，本新型导轮能长时间阻断环形凹槽两边绕镀薄膜的连接，避免其绝缘性能下降，保证了产品膜面质量。 | ||
| 申请公布号 | CN204138752U | 申请公布日期 | 2015.02.04 |
| 申请号 | CN201420564039.1 | 申请日期 | 2014.09.28 |
| 申请人 | 山东淄博汉能光伏有限公司 | 发明人 | 李连喜;周冬;刘光远;刘占伟;张加友;胡尚智 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人 | 郭霞 |
| 主权项 | 一种用于磁控溅射设备的新型导轮，包括导轮本体，所述导轮本体套装于定位轴外，其特征在于：所述导轮本体的两侧表面分别设有第一环形凹槽和第二环形凹槽。 | ||
| 地址 | 255000 山东省淄博市高新区鲁泰大道以北西四路东侧（高分子材料产业创新园） | ||