发明名称 |
取向溶液的纯化装置 |
摘要 |
本发明是提供一种取向溶液的纯化装置,所述装置包含:一反应槽,用以容置一取向溶液及一共沸溶剂;一水分去除系统,包含:一温度控制单元;及一减压单元,其中所述温度控制单元及所述减压单元用以控制所述反应槽的温度及压力,以去除所述取向溶液中的水;以及一金属离子去除系统,用以接收来自所述水分去除系统中的取向溶液,所述金属离子去除系统包含一吸附剂及一滤膜,其中所述滤膜位于所述反应槽的底部,且所述吸附剂位于所述滤膜之上。 |
申请公布号 |
CN103421519B |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201310328430.1 |
申请日期 |
2010.12.24 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
蔡正国;洪焕毅;陈哲阳;许宗洲;蔡佳霖 |
分类号 |
C07B63/00(2006.01)I;C09K19/56(2006.01)I |
主分类号 |
C07B63/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国 |
主权项 |
一种取向溶液的纯化装置,所述装置包含:一反应槽,用以容置一取向溶液;一水分去除系统,用以去除所述取向溶液中的水,包含:一温度控制单元,用以控制所述反应槽的温度;及一减压单元,用以降低所述反应槽的压力,其中所述温度控制单元和所述减压单元用以控制所述反应槽的温度和压力至使所述反应槽中的取向溶液的水和共沸溶剂达到共沸;以及一金属离子去除系统,用以接收来自所述水分去除系统中的取向溶液,所述金属离子去除系统包含一吸附剂及一滤膜,其中所述滤膜位于所述反应槽的底部,且所述吸附剂位于所述滤膜之上。 |
地址 |
中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号 |