| 发明名称 | 一种图案化石墨烯制作方法、阵列基板以及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供了一种图案化石墨烯制作方法、阵列基板以及显示装置，属于电极材料领域，以解决光刻法制作图案化石墨烯时方阻变化较大的问题。所述图案化石墨烯制作方法，包括：将图案化石墨烯置于酸性刻蚀液中浸泡，以降低所述图案化石墨烯的方阻。本发明可用于光刻法制作图案化石墨烯的方法中。 | ||
| 申请公布号 | CN104332390A | 申请公布日期 | 2015.02.04 |
| 申请号 | CN201410433335.2 | 申请日期 | 2014.08.28 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 吕志军;石岳;邸云萍;惠官宝 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种图案化石墨烯制作方法，其特征在于，包括：将图案化石墨烯置于酸性刻蚀液中浸泡，以降低浸泡后的所述图案化石墨烯的方阻。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||