| 主权项 |
1﹒属以下通式各化合物之一种制法:在其中R系由 单(低烷)胺与二(低烷)胺基该团中所选出、 R1系由氢、—甲基与—甲基该团中所选出 、R2系由氢与—羟基该团中所选出,惟当R 1为—甲基R2为氢,R1与R2一起为次甲 基、及R3系由氢与羟基该团中所选出,惟当R 3为羟基时、则R1为甲基、或R1与R2一起 为次甲基;该法特征在于使属下式之一化合物: 在其中R1R2与R3乃如上文所规定者,与 属下式之一种羰基化合物、在有一种还元剂存在 下相接触:在其中R4与R5为相同或相异,每 一根系由氢与低烷基该团中所选出者。 2﹒属以下通式各化合物之一种制法:在其中R系由 单(低烷)胺基与二(低烷)胺基该团中所选出 、R1系由氢、—甲基及—甲基该团中所选 出、R2系由氢与—羟基该团中所送出,惟当 R1为—甲基时、则R2为氢,R1与R2一 起为次甲基、及R3系由氢与羟基该团中所选出 ,惟R3为羟基时,R1为甲基、或R1与R2 一起为次甲基;该法特征在于使属下式一种化合 物在其中R1.R2与R3如上文所规定,及X 系由氟、氯与溴等该团中所选出者,与属下式一 种羰基化合物在有一种还元剂存在下相接触:在 其中R4与R5为相同或相异,每一根系由氢与 低烷基该团中所选出者。 |
