一种基于电纺丝模板制备微流控芯片的方法

摘要

本发明提供一种基于电纺丝模板制备微流控芯片的方法，以光刻胶为材料，通过静电纺丝法制备具有特定厚度的光刻胶纺丝层，通过光刻步骤形成电纺丝模板，最后通过PDMS浇注并封接，获得具有纳米结构微通道表面的微流控芯片。本发明采用电纺与光刻相结合，制备具有纳米结构表面微通道的微流控芯片，方法简便，易于操作。

主权项

一种基于电纺丝模板制备微流控芯片的方法，其特征在于：将纺丝材料配制成一定浓度的纺丝溶液，通过静电纺丝法在电纺丝模板基片表面沉积具有特定厚度的纺丝层，通过光刻步骤形成电纺丝模板，电纺丝模板浸涂一层脱模剂并干燥，浇注PDMS，固化后洗涤、干燥，制备出具有纳米结构通道表面的微流控芯片；所述纺丝材料为SU‑8系列光刻胶，溶剂为环戊酮，纺丝溶液浓度范围为60％～95％(v/v)；所述静电纺丝法的条件为：纺丝电压范围7kV～10kV，流速范围0.1ml/h～0.5ml/h，纺丝时间1～2h。