发明名称 |
多层的保护层或蚀刻停止层薄膜电晶体;MULTILAYER PASSIVATION OR ETCH STOP TFT |
摘要 |
本发明一般系有关于薄膜电晶体以及用于制造薄膜电晶体的方法。对于背通道蚀刻式薄膜电晶体或者是对于蚀刻停止式薄膜电晶体而言,多层的保护层或蚀刻停止层允许一非常致密的覆盖层形成于较不致密的背通道保护层之上。覆盖层可以是充分致密,因此呈现少数的针孔,且因而让氢可以不会穿越通过至半导体层。因此,可以使用含氢的前驱物于覆盖层沉积。 |
申请公布号 |
TW201505186 |
申请公布日期 |
2015.02.01 |
申请号 |
TW103107576 |
申请日期 |
2014.03.06 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
任东吉;元 泰景;卓尚美;怀特 约翰 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);H01L23/52(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
祁明辉林素华涂绮玲 |
主权项 |
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地址 |
美国 |