| 发明名称 |
用于移除光阻之剥离剂组成物及使用其之光阻剥离方法;STRIPPER COMPOSITION FOR REMOVING PHOTORESIST AND STRIPPING METHOD OF PHOTORESIST USING THE SAME |
| 摘要 |
本发明系关于一种用于移除光阻之剥离剂组成物，其可展现优异的光阻移除及剥离性，且有效的抑制污斑或异物产生或残留在含铜及类似物的下膜上，并提供一种利用该剥离剂组成物以使光阻剥离之方法。该用于移除光阻之剥离剂组成物包括至少一胺化合物；一极性有机溶剂；一亚烷基二醇溶剂；以及一耐腐蚀剂。; a polar organic solvent; an alkyleneglycol solvent; and an anticorrosive agent. |
| 申请公布号 |
TW201504775 |
申请公布日期 |
2015.02.01 |
| 申请号 |
TW103115627 |
申请日期 |
2014.04.30 |
| 申请人 |
ＬＧ化学公司 |
发明人 |
李宇林;郑大哲;李东勋;朴泰文 |
| 分类号 |
G03F7/42(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
苏建太苏清泽 |
| 主权项 |
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| 地址 |
南韩 |
