半导体制程设备;SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT

摘要

一种半导体制程设备，包括一腔室、一隔板以及一抽气单元，前述腔室用以容置一半导体元件，前述隔板系设置于前述腔室的一侧，并包括一主体、一承载部及一流场调整单元，前述主体形成有一圆形开口，前述承载部设置于前述开口的，且前述流场调整单元设置于前述承载部与主体之间，并对应于前述开口，其中前述流场调整单元具有一圆环结构以及复数个狭缝，前述狭缝系设置于前述圆环结构上，且相对于前述开口之一中心轴呈放射状排列，前述抽气单元设置于前述腔室外，用以经由前述狭缝对前述腔室抽气。