硅铈抛光液及其制备方法

摘要

本发明涉及一种硅铈抛光液，其含有微米级二氧化铈粉体，纳米级二氧化铈粉体，胶体二氧化硅，琥珀酸酯或盐，阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5～2.0μm，并且粒径为1.5μm以下的微米级二氧化铈粉体占60%以上，粒径为1.8μm以上的占5%以下；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20～100nm，且粒径为50nm以下的纳米级二氧化铈粉体占30～35%，粒径为80nm以上的占10～15%。本发明的硅铈抛光液，可以用于玻璃、蓝宝石、树脂镜片以及半导体基片的高精度研磨和抛光工艺，具有抛光效率高、抛光精度高，切削率高的优点。

主权项

一种硅铈抛光液，采用纳米级二氧化铈粉体、微米级二氧化铈粉体、胶体二氧化硅作为研磨材料，其特征在于：所述抛光液中含有3~6wt%的微米级二氧化铈粉体，1.20~1.75wt%的纳米级二氧化铈粉体，10~25wt%的胶体二氧化硅，0.3~0.8wt%的琥珀酸酯或盐，0.5~1.5wt%的阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5~2.0 μm；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm。