单片硅片清洗机台

摘要

本发明涉及一种手动单片硅片清洗装置。本发明一种单片硅片清洗机台，用于硅片的清洗，包括基座和多个限位柱，所述基座上开设有进水口，多个限位柱围绕进水口装设在基座上，进水口进水使放置在进水口的硅片浮起。硅片正面受到不断流出的水的保护，从而不与酸液进行接触。本发明单片硅片清洗机台利用水压顶起硅片，硅片浮起在清洗机台上，硅片背面在酸洗过程中，硅片正面一直处于水中，从而保护硅片正面不与酸液接触，这样硅片正面的金属层不被腐蚀，从而提高了硅片的生产合格率。本发明单片硅片清洗机台结构简单，基座上装设限位柱，限制硅片在限位柱内漂浮，从而防止硅片随水流漂出。

主权项

一种单片硅片清洗机台，用于硅片的清洗，其特征是：包括基座(1)和多个限位柱(2)，所述基座(1)上开设有进水口(11)，多个限位柱(2)围绕进水口(11)装设在基座(1)上。