发明名称 用于制造超声换能器和其他部件的方法
摘要 本发明在于制造电子部件诸如超声换能器的方法。具体而言,本发明提供,例如,在超声换能器与电路的连接中,的图案化电极的方法;在表面上沉积金属的方法;以及对于超声换能器制造集成匹配层的方法。本发明还在于通过此处所述的方法制造的超声换能器。
申请公布号 CN102308375B 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN200980145902.1 申请日期 2009.09.18
申请人 视声公司 发明人 M·卢卡斯;C·查格雷斯;D·赫森;庞国锋
分类号 H01L21/64(2006.01)I;H04R17/00(2006.01)I;H04R31/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/64(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人 郑建晖;杨勇
主权项 用于制造呈一个图案的电极的方法,所述方法包括如下步骤:(a)提供一个具有多个阵列元件和多个切口槽的电气部件;(b)将包括多个电连接的连接器放置在所述电气部件附近;(c)将包括基质材料和颗粒材料的复合介质材料沉积在所述电气部件和所述连接器上,其中所述基质材料相比于所述颗粒材料在较低能量密度下被激光烧蚀;(d)通过将所述复合介质材料激光烧蚀以暴露所述多个阵列元件以及在所述复合介质材料中从所述阵列元件中的每一个阵列元件到所述连接器中的相应电连接激光烧蚀一个沟,将所述复合介质材料的至少一部分激光烧蚀以去除基质材料并增加所述复合介质材料的表面积;(e)在步骤(d)中烧蚀的区域上沉积导电金属;(f)在所述导电金属上沉积抗蚀剂,其中与所述切口槽相比,所述抗蚀剂在所述阵列元件上更厚;以及(g)去除所述抗蚀剂的一部分使得以呈一个负的图案来暴露所述导电金属的一部分并蚀刻所述导电金属的暴露部分以制造呈所述图案的电极。
地址 加拿大安大略