蒸镀掩模、蒸镀装置、薄膜形成方法

摘要

提供一种能够对应于大型基板的蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀方法。在蒸镀掩模（10）上形成开口部（11），以使其中心间距离为基板（50）的像素（51a₁、51a₂）的中心间距离的2倍。将该蒸镀掩模配置在基板上，在进行对位以使开口部和遮蔽部（19）交替地配置在各像素（51a₁、51a₂、51a_x）的上方的状态下，将与开口部面对的像素（51a₁）成膜，接着使蒸镀掩模移动像素（51a₁、51a₂）的中心间距离，使开口部位于在移动前与遮蔽部面对的未成膜的像素（51a₂、51a_x）的上方，在此状态下在未成膜的像素（51a₂、51a_x）上成膜薄膜。由于开口部的间隔比以往宽，所以能够使在开口部形成时蒸镀掩模损坏的可能性比以往减小，大型的蒸镀掩模的制造变得容易。

主权项

一种蒸镀掩模，是构成为使得蒸汽能够到达基板上的成膜相同材料的多个像素的蒸镀掩模，其特征在于，在一部分的上述像素上具有使上述蒸汽通过的开口部；在上述蒸镀掩模的一方向上相邻的上述开口部的中心间距离是被用相同材料成膜、并且在上述一方向上相邻的上述像素的中心间距离的多倍，具有以与在上述一方向上相邻的上述像素的中心间距离相同的中心间距离配置的多个掩模标记。