发明名称 |
光学式奈米压痕量测装置及其方法 |
摘要 |
本发明系关于一种光学式微/奈米压痕与拉伸测试装置及其方法,结合三种试验量测所得之结果,即微/奈米压痕与拉伸测试装置对薄膜式片之量测结果(杨氏模数)、光学方法之形变量测结果(浦松比)与薄膜试片之动态特性量测结果(密度),将上述三种实验量测结合,即可分别获得薄膜试片之杨氏模数值、浦松比与密度。 |
申请公布号 |
TWI470221 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW097150884 |
申请日期 |
2008.12.26 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |
发明人 |
徐炯勋;林以青;吴忠霖;陈生瑞 |
分类号 |
G01N3/08;G01N9/24 |
主分类号 |
G01N3/08 |
代理机构 |
|
代理人 |
郭雨岚 台北市大安区仁爱路3段136号13楼;林发立 台北市大安区仁爱路3段136号13楼 |
主权项 |
一种光学式奈米压痕量测装置,包含:一机台;一薄膜试片;一振动元件,设于该机台上,该振动元件使该薄膜试片产生振动;一光发射与接收元件,设于该机台上并位于该薄膜试片一侧,量测该薄膜试片之位移量;以及一第一治具,设于该机台上,且可在该机台上移动,该第一治具对该薄膜试片进行压痕,其中该薄膜试片设于该振动元件上方,并于该第一治具与该振动元件之间。 |
地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |