| 发明名称 |
微影装置及操作装置之方法 |
| 摘要 |
本发明揭示一种微影投影装置，其包括一清洁台。本发明揭示该清洁台之若干实施例。在一实施例中，采取措施以避免一清洁流体与投影系统之最终元件的接触。在一实施例中，采取措施以避免该清洁流体之发泡。本发明亦揭示一热隔绝岛之使用以及其最佳位置。 |
| 申请公布号 |
TWI470364 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
| 申请号 |
TW098112350 |
申请日期 |
2009.04.14 |
| 申请人 |
ＡＳＭＬ荷兰公司 荷兰 |
发明人 |
瓦特梭 罗伯特 道格拉斯;凡 多姆伦 尤瑞 乔汉那 劳瑞提斯 玛利亚;贾库博 乔汉斯 亨利哈斯 威廉玛斯;强森 汉斯;李德斯 马帝那 亨利可 安东尼亚;马汀斯 乔翁 乔纳斯 苏菲亚 马莉亚;史特杰特 彼德 保罗;迪 琼恩 安东尼 马提斯 柯尼利 佩勒斯;凡 迪 温可 吉米 马特斯 威哈幕斯;达 帕兹 塞那 裘那欧 保罗;凡 德 李 莫莱斯 玛汀那斯 裘汉纳斯;凡 莱尔 亨利克斯 马帝纳斯 朵席尔斯;坦纳撒 乔尔发 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
| 主权项 |
一种浸没(immersion)微影装置，其包含：一浸没液体供应系统，其提供浸没液体；一投影系统，其将一辐射光束经由该浸没液体投影至一辐射敏感(radiation-sensitive)基板上；一入口，其经组态以将与该浸没液体不同材料之一清洁流体引入至一空间中，一待清洁表面至少部分地界定该空间，该入口连接至一第一开口(opening)，该第一开口系已连接或可连接至一清洁流体供应件；及一液体密封件，其经组态以在该空间之至少一部分周围进行密封以阻止环绕该空间之气体接触该清洁流体，其中该液体密封件包含一密封入口(seal inlet)，其经组态以在当该空间内有清洁流体时，供应与该清洁流体不同的一材料的液体，该密封入口连接至一第二开口，该第二开口系已连接或可连接至与该清洁流体不同材料的该液体之一供应件。 |
| 地址 |
荷兰 |
