相位移光罩的制造方法、平面显示器的制造方法、及相位移光罩

摘要

[课题]提供一种能够形成微细且高精确度的曝光图案之相位移光罩的制造方法、平面显示器的制造方法、及相位移光罩。;[解决手段]本发明的一形态之相位移光罩1，其具有可使其对于300nm以上、500nm以下的波长区域之任一光线具有180°的相位差之相位移层13P1。藉此，藉由使用上述波长区域的光线作为曝光光线，利用相位的反转作用来形成光强度成为最小的区域，能够使曝光图案更鲜明。相位移层13能够藉由在含有40%以上、90%以下的氮化性气体及10%以上、35%以下的氧化性气体之混合气体的环境下，溅镀铬系材料的靶材来形成。

主权项

一种相位移光罩的制造方法，其系包含：将透明基板上的遮光层图案化；藉由在含有49.4%以上、86.2%以下的N2气体及10%以上、35%以下的CO2气体之混合气体的环境下溅镀铬系材料的靶材，以被覆前述遮光层的方式且以赋予i射线的相位差与赋予g射线的相位差之差异为40°以下之膜厚度在前述透明基板上形成由对于300nm以上、500nm以下的波长区域之任一光线可具有180°±10°的相位差之氧化氮化碳化铬系材料所构成的相位移层；及将前述相位移层图案化。