正型光阻组成物及图案形成方法

摘要

本发明可提供在以ArF准分子雷射光等的高能量射线作为光源之光微影中，可获得解像性、尤其焦点深度(DOF)特性方面优异，特别是在接触孔图案形成中，可获得真圆性优异之矩形性高的图案的正型光阻组成物及使用该正型光阻组成物之图案形成方法。;一种正型光阻组成物，其特征为含有：(A)由于酸而提高硷溶解性的树脂，其包含：以下述通式(1-1)表示之重复单元与以下述通式(1-2)表示之重复单元、及作为具有酸不稳定基的重复单元之下述通式(a-1)~(a-3)中至少1种的重复单元及下述通式(b-1)、(b-2)中至少1种的重复单元；(B)光酸产生剂；(C)硷性化合物；及(D)溶剂。

主权项

一种正型光阻组成物，其特征为含有：(A)由于酸而提高硷溶解性的树脂，其包含：以下述通式(1-1)表示之重复单元、以下述通式(1-2)表示之重复单元、作为具有酸不稳定基的重复单元之下述通式(a-1)的重复单元及下述通式(b-1)的重复单元；(B)光酸产生剂；(C)硷性化合物；及(D)溶剂；(式中，R1、R2表示甲基或氢原子，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、及伸乙基的任一者；n为0或1)；(式中，R3、R10表示甲基或氢原子，R4、R11、R12表示碳数1~5之直链状或分支状之烷基；o，p为o=1，p=0或o=0，p=1；m为1~4的整数)。