基板洗净装置及基板洗净方法;SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING METHOD

摘要

本发明提供一种可迅速从基板除去藉由滚筒洗净工具洗净时使用之洗净液的基板洗净装置。基板洗净装置具备：保持基板W并使其旋转之基板保持部71~74、75；在基板W之第一区域R1供给洗净液的洗净液供给喷嘴87；在洗净液存在下，藉由滑动接触于基板W而洗净基板W的滚筒洗净工具77；及在基板W之第二区域R2供给由纯水或药液构成之流体的流体供给喷嘴88。第二区域R2对滚筒洗净工具77位于第一区域R1之相反侧，流体之供给方向系从基板W之中心侧朝向外周侧的方向。