自我清洗射频电浆源;SELF-CLEANING RADIO FREQUENCY PLASMA SOURCE

摘要

一种用于半导体制程的自我清洗射频电浆源。多个范例提出一种射频电浆源，其包括射频天线和围绕此射频天线的可旋转介电护套。此介电材料位在制程室和清洗室之间，使得介电材料的部分表面可以被选择性地暴露在制程室或清洗室。当在制程室中材料沉积在介电材料的外表面上时，旋转此介电护套，使附有增生物的部分暴露于清洗室中。在清洗室中的溅射制程移除护套表面上的增生物。此介电护套再被旋转使其暴露于制程室中。揭露且主张其他实施例。