| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Prozessstabilisierung bei Beschichtungsprozessen, bei denen von mindestens einer Beschichtungsquelle (2) mindestens ein Beschichtungsmaterial oder eine Beschichtungsmaterialkomponente als Gas oder Dampf bereitgestellt und unter Verwendung mindestens einer Blende (3) so auf ein zu beschichtendes Substrat gelenkt wird, dass es sich auf einer Oberfläche des Substrats niederschlägt und auf der Oberfläche eine Schicht ausbildet, wobei die Temperatur der Blende (3) konstant gehalten wird, sowie eine Bandsubstratbehandlungsanlage zur Oberflächenbeschichtung eines Bandsubstrats, umfassend eine Trommel (1) mit einer zylindrischen Mantelfläche zur Führung des Bandsubstrats um einen Teilumfang der Mantelfläche herum, mindestens eine Beschichtungsquelle (2) mit einer auf die Mantelfläche gerichteten Beschichtungsrichtung sowie mindestens eine Blende (3) zum Aufnehmen von Streudampf, wobei die Blende (3) mit Mitteln zum Konstanthalten der Temperatur der Blende (3) in Wirkverbindung steht.</p> |
