发明名称 | 一种稳定的直流放电负离子源 | ||
摘要 | 一种稳定的直流放电负离子源,包括3片放电环(1)、3片陶瓷环(2)、1个陶瓷底座(3)、1个喷嘴(4)、1台高压直流电源(5)、1个电容(6)和1个电阻(7)。所述高压直流电源(5)、电容(6)和电阻(7)构成一个供电系统,将电压施加于放电环(1)上,3片放电环(1)和3片陶瓷环(2)交叉排列,位于陶瓷底座(3)的位置,下端与喷嘴(4)相连。本发明利用钼作为电极环,并由高压直流电源(5)、电容(6)和电阻(7)组成供电系统,可产生稳定的短脉冲大电流的放电等离子体。解决了电极环在长期放电环境中变形氧化,放电不稳定的问题。 | ||
申请公布号 | CN104282527A | 申请公布日期 | 2015.01.14 |
申请号 | CN201310291526.5 | 申请日期 | 2013.07.11 |
申请人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明人 | 唐紫超;秦正波;张世宇 |
分类号 | H01J49/10(2006.01)I | 主分类号 | H01J49/10(2006.01)I |
代理机构 | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人 | 张晨 |
主权项 | 一种稳定的直流放电负离子源,其特征在于:该离子源包括放电环(1)、陶瓷环(2)、陶瓷底座(3)、喷嘴(4)、高压直流电源(5)、电容(6)和电阻(7);所述高压直流电源(5)、电容(6)和电阻(7)构成一个供电系统,与放电环(1)相连,放电环(1)和陶瓷环(2)交叉排列,位于陶瓷底座(3)的中央位置,放电环(1)下端与喷嘴(4)相连。 | ||
地址 | 116023 辽宁省大连市中山路457号 |