| 摘要 |
【物品用途】;本设计的物品是带电粒子束描绘装置用腔室，本物品是在制造半导体用光罩(亦包括标线)的带电粒子束描绘装置(例如：电子束描绘装置)中，作为描绘室使用的腔室。;【设计说明】;腔室为一种收容载置着空白光罩等之描绘对象物的工作台，当施行带电粒子束描绘装置之描图时，该腔室内部会减压成为真空状态；该腔室是藉由：上部开口的箱体、和塞住该开口的盖体所构成；盖体如「俯视图」或「由俯视方向观看的立体图」所示，具有开口部；该开口部为嵌合光学镜筒的部分，该光光学镜筒内装着用来对工作台上的描绘对象物照射带电粒子束的带电粒子光学系统；另外，箱体的底板，如「C-C部分剖面立体图」所示，具有：位于箱体之四角隅用来支撑工作台的四个支撑部、和向外部弯曲而突出的凸状弯曲部。;后视图与前视图相同，后视图省略。;左侧视图与右侧视图相同，左侧视图省略。 |
