曝光单元及基板之曝光方法

摘要

本发明提供一种曝光单元及基板之曝光方法。于工件夹盘21之吸附面22上具有：隔离壁81a、...、81d、82a、...、82d、83a、...、83d，其等系用于将相邻之吸附区域隔离80a、...、80g而形成，且可抵接于基板W之背面；及复数个突起85，其等于各吸附区域80a、...、80g内可抵接于基板W之背面；且，复数个曝光装置本体2~5之各工件夹盘21之吸附面22具有大致相同之外形尺寸，并且各工件夹盘21之隔离壁81a、...、81d、82a、...、82d、83a、...、83d于每个曝光装置本体2、...、5中形成于不同位置。

主权项

一种曝光单元，其特征在于，其系将复数个光罩之图案依次曝光转印至基板者，且上述曝光单元包括藉由照射曝光用光而将光罩之图案曝光转印至上述基板上之复数个曝光装置本体，该等复数个曝光装置本体包括：光罩保持部，其保持具有上述图案之上述光罩；基板保持部，其具有吸附并保持上述基板之吸附面；及照射部，其照射上述曝光用光；于上述基板保持部之吸附面上设置：用于将相邻之吸附区域隔离而形成且可抵接于上述基板之背面之隔离壁，及于上述各吸附区域中可抵接于上述基板之背面之复数个突起，上述复数个曝光装置本体之各基板保持部之吸附面具有大致相同之外形尺寸，并且，上述各基板保持部之隔离壁形成于依每个上述曝光装置本体而不同之位置；上述复数个突起之高度与上述隔离壁之高度相等；上述基板系被保持于大气中。